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精密磁流变抛光装置的设计与应用

精密磁流变抛光装置的设计与应用

作     者:杨建国 李中会 李蓓智 陶晓峰 YANG Jian-guo;LI Zhong-hui;LI Bei-zhi;TAO Xiao-feng

作者机构:东华大学机械工程学院上海201620 

基  金:上海市重点学科建设资助项目(B602) 

出 版 物:《机械设计与制造》 (Machinery Design & Manufacture)

年 卷 期:2010年第9期

页      码:60-62页

摘      要:在介绍了磁流变抛光的基本原理基础上,对磁流变抛光的两种不同结构的装置进行了优缺点比较,从影响抛光效率和最终表面精度考虑,确定了最终的装置设计方案,给出了抛光装置的关键部件的设计,并用磁流变抛光加工了直径83mm的BK9光学平面玻璃工件,获得了Ra0.702nm的表面精度。

主 题 词:磁流变抛光 磁流变液 抛光装置 

学科分类:080503[080503] 08[工学] 080203[080203] 0805[工学-能源动力学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

D O I:10.3969/j.issn.1001-3997.2010.09.026

馆 藏 号:203364407...

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