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一类高穿透二氟甲氧桥单体的合成与性能应用研究

一类高穿透二氟甲氧桥单体的合成与性能应用研究

作     者:张兴 员国良 徐凯 孟劲松 李明 华瑞茂 ZHANG Xing;YUN Guoliang;XU Kai;MENG Jinsong;LIMing;HUA Ruimao

作者机构:石家庄诚志永华显示材料有限公司河北石家庄050091 河北省平板显示材料工程技术研究中心河北石家庄050091 清华大学化学系北京100084 

基  金:河北省科技支撑计划(13211202D) 

出 版 物:《河北师范大学学报(自然科学版)》 (Journal of Hebei Normal University:Natural Science)

年 卷 期:2018年第42卷第5期

页      码:403-410页

摘      要:随着液晶显示器件向高分辨率、高像素密度方向发展,提高液晶材料在FFS模式下的穿透率成为重要的研究方向,高穿透率、高可靠性及快响应速度的混合液晶材料具有广阔的应用前景.二氟甲氧桥液晶具有低粘度、高介电、高可靠性的特点,是正性FFS模式中常用的一类单体材料.设计、合成、评测了一类末端侧向二氟取代的二氟甲氧桥液晶单体,并且考察了在液晶组合物中的应用,相对于常见单体,该系类单体的ε⊥>8,提高正性FFS液晶的穿透率5%以上,通过液质联用、核磁氢谱、差热分析等方法对结构进行了表征,并对性能参数与液晶分子结构之间的关系作了探讨.

主 题 词:液晶 高穿透 二氟甲氧桥 残像 

学科分类:08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D O I:10.13763/j.cnki.jhebnu.nse.2018.05.006

馆 藏 号:203375275...

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