超薄锗片粘蜡工艺研究

作     者：王云彪 陈雅楠 田原 耿莉 WANG Yunbiao;CHEN Yanan;TIAN Yuan;GENG Li

作者机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所天津300220 

出 版 物：《电子工艺技术》 (Electronics Process Technology)

年 卷 期：2018年第39卷第5期

页      码：297-300页

摘      要：超薄锗片是制作多结空间太阳能电池的主要衬底材料,随着空间卫星技术的不断发展,对高质量超薄锗抛光片的需求量正在逐年增加。粘蜡抛光是获得高平整度抛光片的主要手段,也是未来超薄大尺寸锗单晶片加工的必然选择。从涂蜡参数、烘烤条件、翻转吸头和压头参数影响等方面,研究蜡层厚度及均匀性和粘蜡后表面形变问题,通过调整参数,重新设计翻转吸头,确定了适合超薄锗片的粘蜡工艺,获得了高平整度的锗抛光片。

主 题 词：超薄锗片 抛光片 粘蜡 表面形变 吸头 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

D　O　I：10.14176/j.issn.1001-3474.2018.05.013

馆 藏 号：203379258...