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U表面循环Ar^+轰击-磁控溅射离子镀Ti研究

U表面循环Ar^+轰击-磁控溅射离子镀Ti研究

作     者:鲜晓斌 刘柯钊 吕学超 张永彬 

作者机构:中国工程物理研究院四川绵阳621900 

出 版 物:《稀有金属材料与工程》 (Rare Metal Materials and Engineering)

年 卷 期:2003年第32卷第1期

页      码:67-69页

摘      要:用设计的循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀法在U表面上镀Ti,并采用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪和湿热加速腐蚀实验,研究了其表面、剖面形貌、镀层的组成与结构、膜基界面特征,以及耐湿热腐蚀性能。结果表明,U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Ti层结晶致密、晶粒细化,镀层由表及里分别由TiO2/TiO/Ti构成,镀层厚度≥4μm时、其试样的耐湿热腐蚀性能较之金属U来讲有较大程度的提高。

主 题 词:磁控溅射 离子镀 耐湿热腐蚀性能 组织结构 镀钛 离子轰击 

学科分类:080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录:

D O I:10.3321/j.issn:1002-185X.2003.01.016

馆 藏 号:203386389...

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