利用离子源掺铁制备多层类金刚石膜

作     者：马占吉 赵栋才 肖更竭 任妮 武生虎 Ma Zhanji;Zhao Dongcai;Xiao Gengjie;Ren Ni;Wu Shenghu

作者机构：兰州物理研究所表面工程技术国家重点实验室兰州730000 

基　　金：重点实验室基金项目:(No.9140C540201060C54) 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2008年第28卷第5期

页      码：410-414页

摘      要：对离子源进行合理设计,使离子源中的Ar离子溅射产生Fe离子,利用裹挟Fe离子的Ar离子在制备类金刚石薄膜的过程中进行间歇性注入掺杂,制备多层类金刚石薄膜。这种多层类金刚石薄膜和单层类金刚石薄膜相比,应力从4.5 GPa降至3.9 GPa,摩擦系数从0.14降至0.1附近,同时保持硬度值不变。

主 题 词：类金刚石膜 掺铁 多层膜 力学性能 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjovst.2008.05.008

馆 藏 号：203394341...