改良西门子法多晶硅工厂还原装置的设计

作     者：迟志奎 赵晨悦 

作者机构：南京合创工程设计有限公司 中石化南京工程有限公司江苏南京210011 

出 版 物：《内蒙古石油化工》 (Inner Mongolia Petrochemical Industry)

年 卷 期：2018年第44卷第9期

页      码：70-73页

摘      要：目前,世界上主要采用改良西门子法生产工艺制备多晶硅,多晶硅还原单元是改良西门子法生产工艺的一个重要环节,还原单元设计的优劣对多晶硅的质量和成本有着重要影响,本文将根据设计经验并结合实际生产操作,对多晶硅还原单元的工艺系统设计、装置布置等进行介绍,以期对多晶硅生产和多晶硅还原单元设计及布置提供参考。

主 题 词：多晶硅 还原炉 CVD-化学气相沉积 工艺设计 装置管道布置 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1006-7981.2018.09.026

馆 藏 号：203395231...