自基准哈特曼波前测量装置的研制

作     者：刘春阳 朱秋东 LIU Zhun-yang;ZHU Qiu-dong

作者机构：北京理工大学光电工程系北京100081 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2008年第34卷第1期

页      码：98-99,104页

摘      要：采用自基准哈特曼径向斜率测量原理,设计了旋转加摩擦线性移动扫描机构,对被测波前进行连续极坐标扫描采样;用CCD相机采集光斑图像,经波面径向斜率计算和泽尼克径向斜率多项式最小二乘拟合,求出被测波面的泽尼克系数和波前畸变值。与干涉仪测量结果进行了比较,所以研制的波前测量装置可满足大口径光学系统的像质测量。

主 题 词：光学测量 哈特曼检验 径向斜率检验 像质检验 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1002-1582.2008.01.009

馆 藏 号：203402290...