影响X光源特性的参数研究

作     者：刘军 崔蔚 施将君 刘进 李必勇 

作者机构：中国工程物理研究院流体物理研究所四川绵阳621900 中国工程物理研究院工学院计算机系四川绵阳621900 

基　　金：国防科技基础研究基金资助课题 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2005年第34卷第2期

页      码：209-213页

摘      要：针对高能电子束撞击重金属靶产生轫致辐射光子,利用蒙特卡罗方法详细研究了电子束半径与发射度以及靶的厚度对X光源特性的影响 结果表明:电子束半径与发射度不仅是影响照射量的主要因素,也是造成照射量分布不均匀的主要原因;给定电子束,存在一个靶厚度使得靶前1m处的照射量最大 因此,在X射线成像系统的设计和模拟过程中,应综合考虑电子束半径与发射度和靶厚的影响.

主 题 词：MC模拟 电子束参数 转换靶 照射量 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203402335...