锗基底7～11．5μm高性能红外宽带减反射膜的研究

作     者：潘永强 朱昌 杭凌侠 PAN Yong-qiang;ZHU Chang;HANG Ling-xia

作者机构：西安工业学院光电工程学院陕西西安710032 

出 版 物：《应用光学》 (Journal of Applied Optics)

年 卷 期：2005年第26卷第6期

页      码：63-65页

摘      要：为了提高锗基底的透过率和膜层的机械强度,对锗基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究.介绍了红外宽带减反射膜的膜料选择、膜系设计以及采用离子束辅助沉积该膜系的过程.给出了用该方法制备的7～11.5 μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率高达99.5%以上,在设计波段范围内平均透过率大于97.5%,膜层附着性能好,光机性能稳定.这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义.

主 题 词：红外减反射膜 离子束辅助沉积 锗基底 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1002-2082.2005.06.017

馆 藏 号：203404309...