磁流变抛光超光滑光学表面

作     者：程灏波 冯之敬 王英伟 CHENG Hao-bo;FENG Zhi-jing;WANG Ying-wei

作者机构：清华大学精密仪器与机械学系北京100084 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130022 

基　　金：国家高技术研究发展计划资助项目(2001 AA421140)国家自然科学基金资助项目(50175062) 

出 版 物：《哈尔滨工业大学学报》 (Journal of Harbin Institute of Technology)

年 卷 期：2005年第37卷第4期

页      码：433-436页

摘      要：研究了利用初始粘度达到0.5Pa·s、具有相对大范围稳定性的标准磁流变抛光液,并结合设计独特的公自转组合运动永磁抛光轮进行了试验,对抛光过程中的主要参量包括抛光轮与工件之间间隙、抛光轮与工件之间相对运动速度、氧化铈浓度及抛光时间对材料去除特性的影响进行了研究.磁流变抛光对工件(K9玻璃)表面粗糙度提高效果的抛光试验结果证明,该套系统具有良好的抛光特性,抛光28min后工件表面粗糙度由最初的10.98nm收敛到0.6315nm,获得了超光滑量级的抛光表面.

主 题 词：磁流变抛光 超光滑 表面粗糙度 去除率 磁偶极子 

学科分类：0810[工学-土木类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0805[工学-能源动力学] 081102[081102] 0811[工学-水利类] 0812[工学-测绘类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:0367-6234.2005.04.001

馆 藏 号：203408706...