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高技术陶瓷的微波快速烧结研究

高技术陶瓷的微波快速烧结研究

作     者:谢志鹏 李建保 杨金龙 黄勇 

作者机构:清华大学材料科学与工程系北京100084 

基  金:国家自然科学基金重点基金 

出 版 物:《应用基础与工程科学学报》 (Journal of Basic Science and Engineering)

年 卷 期:1994年第2卷第Z1期

页      码:132-138页

摘      要:介绍了一种用于制备高技术陶瓷的新型烧结技术——微波烧结。通过微波烧结腔合理设计,保温结构布置与负载阻抗匹配,对氧化锆增韧氧化铝(ZTA),四方相多晶氧化锆(TZP)和氮化硅(Si_3N_4)陶瓷实现了快速烧结,并达到较高致密度。扫描电镜,X射线衍射分析和力学性能测试结果表明,与常规烧结方法相比,微波烧结不但可显著缩短烧结时间,并可获得晶粒细小均匀的陶瓷显微结构。

主 题 词:高技术陶瓷 微波烧结 多模烧结腔 

学科分类:08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D O I:10.16058/j.issn.1005-0930.1994.z1.004

馆 藏 号:203411288...

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