W波段分布作用速调管电子光学系统的研究

作     者：王树忠 阮存军 杨修东 赵鼎 张长青 董玉和 Wang Shuzhong;Ruan Cunjun;Yang Xiudong;Zhao Ding;Zhang Changqing;Dong Yuhe

作者机构：中国科学院高功率微波源与技术重点实验室中国科学院电子学研究所北京100190 内蒙古科技大学数理生学院包头014010 

基　　金：国家自然科学基金项目(61172015 61222110 61062001) 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2014年第34卷第8期

页      码：819-823页

摘      要：本文设计了W波段分布作用速调管高压缩比电子枪和均匀场永磁聚焦系统;分析了电子枪区瓷封边对枪区磁场以及电子注直流通过率的影响;分析了不同聚焦磁场下的电子枪区磁场,并进行了测试分析,获得和模拟相一致的结果;给出了电子枪区铁磁性材料的两种工程上的可行性解决方案,增大磁屏开孔方案和部分瓷封边替换方案,其中采用瓷封边部分替换方案可以获得高的电子枪面压缩比.

主 题 词：W波段 高压缩比 电子光学 分布作用速调管 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080901[080901] 0809[工学-计算机类] 0817[工学-轻工类] 0806[工学-电气类] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1672-7126.2014.08.09

馆 藏 号：203419990...