同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究

作     者：徐象如 黄玮 贾树强 徐明飞 Xu Xiangru;Huang Wei;Jia Shuqiang;Xu Mingfei

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室吉林长春130033 中国科学院大学北京100049 

基　　金：国家重大专项子课题基金(2012ZX02701001-007) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2015年第35卷第10期

页      码：103-110页

摘      要：热像差是导致光刻物镜工作状态下像质劣化的主要原因之一。针对同轴两反式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的结构特点,提出了将元件位移法和元件分区加热法相结合,共同补偿热像差的方案。元件位移法通过改变元件的间隔、偏心或倾斜量来调节像质;元件分区加热法利用光学材料折射率随温度变化的特点,通过控制元件的温度分布产生可控波前。采用上述补偿方案对偶极照明模式下的热像差进行补偿,波像差从129.78 nm减小至1.69 nm,畸变从12.24 nm减小至1.31 nm,将物镜像质补偿至接近设计水平。

主 题 词：成像系统 投影光刻物镜 热像差 元件位移 分区加热 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos201535.1011003

馆 藏 号：203433135...