ZL109铝合金表面多弧离子镀TiN薄膜的制备及性能

作     者：谭银元 潘应君 TAN Yin-yuan;PAN Ying-jun

作者机构：武汉船舶职业技术学院科研处湖北武汉430050 武汉科技大学材料与冶金学院湖北武汉430081 

基　　金：湖北省教育厅科研重点项目(D200753001) 

出 版 物：《金属热处理》 (Heat Treatment of Metals)

年 卷 期：2009年第34卷第11期

页      码：31-33页

摘      要：利用正交设计试验探讨了基体温度、偏压、溅射时间、沉积时间对ZL109表面沉积TiN涂层时,对薄膜显微硬度和膜/基结合力的影响。结果表明,在ZL109表面多弧离子镀制备TiN薄膜的最佳工艺为:基体温度260℃、偏压200V、沉积时间30min、溅射时间8min、Ti靶电流80A、炉内总压1Pa(Ar和N2流量比为1∶2)。在此工艺下制备的TiN薄膜显微硬度达到1500HV0.05,膜/基结合力达到36N,膜厚约2～3μm。

主 题 词：多弧离子镀 ZL109铝合金 TiN薄膜 性能 

学科分类：080503[080503] 0817[工学-轻工类] 0806[工学-电气类] 08[工学] 0807[工学-电子信息类] 0805[工学-能源动力学] 0802[工学-机械学] 0703[理学-化学类] 0811[工学-水利类] 0801[工学-力学类] 

核心收录：

D　O　I：10.13251/j.issn.0254-6051.2009.11.012

馆 藏 号：203433545...