高电流密度圆柱状电子光学系统设计

作     者：孙富宇 吴振华 张开春 Sun Fu-Yu;Wu Zhen-Hua;Zhang Kai-Chun

作者机构：电子科技大学物理电子学院太赫兹研究中心成都610054 

基　　金：国家重大基础研究发展计划(973)项目(批准号:2007CB310401)资助的课题~~ 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2010年第59卷第3期

页      码：1721-1725页

摘      要：设计了高电流密度圆柱状电子枪,并分析了枪体参数对电子注品质的影响;运用径向力平衡理论计算了聚焦磁场.三维模拟软件CSTPARTICLESTUDIO模拟显示,在枪体电极和空间电荷形成的静电场,以及聚焦磁场作用下,电子呈角向先变速后匀速螺旋状运动,其旋转半径始终与出射阴极面时的半径相同,从而在枪区和互作用通道内维持了注包络水平.模拟结果与设计理论相符.注平均电流密度达到24·4A/cm2,层流性良好,填充因子76·7%,流通率100%.

主 题 词：电子枪 聚焦磁场 电子光学系统 注包络 

学科分类：08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0805[工学-能源动力学] 0704[理学-天文学类] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.7498/aps.59.1721

馆 藏 号：203434635...