铜配合物促进的DNA氧化断裂(英文)

作     者：孙辉 余臻 杨玮琪 何卫江 郭子建 SUN Hui;YU Zhen;YANG Wei-Qi;HE Wei-Jiang;GUO Zi-Jian

作者机构：南京大学化学化工学院配位化学国家重点实验室南京210093 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:20871066,10979019,21021062) 江苏省自然科学基金(批准号:BK2008015,BK2009229)资助 

出 版 物：《高等学校化学学报》 (Chemical Journal of Chinese Universities)

年 卷 期：2011年第32卷第3期

页      码：437-450页

摘      要：本文首先对铜配合物催化DNA氧化断裂的机制及相关因素,包括DNA的结合能力与方式、活性氧物种的形成和活性氧物种对底物的损伤等进行了讨论,然后结合本组的工作对配合物的结构及其对DNA切割性能的影响分别进行了总结,探讨了核数、核种类、位阻、电荷、结合方式以及氧化还原电位等因素的影响,同时还对光激发铜配合物断裂DNA的机制和性能进行了分析,最后对特异性含铜DNA断裂试剂的不同设计策略及相关切割行为进行了系统总结,这不仅有利于对铜配合物促进DNA断裂行为的系统理解,而且对于进一步设计高效含铜人工核酸酶以实现DNA的特异性断裂具有良好的指导意义.

主 题 词：铜 DNA 氧化切割 特异性 光切割 

学科分类：081704[081704] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 0703[理学-化学类] 070301[070301] 

核心收录：

馆 藏 号：203441678...