看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >MALDI TOF质谱分析尼龙66时溶剂的影响 收藏
MALDI TOF质谱分析尼龙66时溶剂的影响

MALDI TOF质谱分析尼龙66时溶剂的影响

作     者:于博昊 吴婷 奚一丹 施佳妮 杜一平 YU Bo-hao;WU Ting;XI Yi-dan;SHI Jia-ni;DU Yi-ping

作者机构:华东理工大学分析测试中心上海200237 

基  金:中央高校基本科研业务费专项资金(222201314039) 上海高校实验技术队伍建设计划 

出 版 物:《实验室研究与探索》 (Research and Exploration In Laboratory)

年 卷 期:2015年第34卷第2期

页      码:17-19,42页

摘      要:基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS)作为一种高效、精确的方法,已经在聚合物分析中发挥了重要的作用。通过MALDI MS质谱图不仅能得到聚合物的各种相对分子质量信息,同时能分析聚合物的重复单元和端基。为了在MALDI TOF质谱分析聚合物时得到更好的结果,研究了样品制备中溶剂的选择对质谱分析结果的影响。选取溶解性较差的尼龙66作为分析物,从样品和基质的溶剂着手,选取甲酸和三氟代乙醇分别作为尼龙66的溶剂,以甲酸(FA),三氟代乙醇(TFE)和四氢呋喃(THF)分别作为基质的溶剂,进行MALDI TOF质谱分析,得到一系列的谱图,分析不同溶剂在MALDI TOF质谱分析聚合物时的影响。结果表明,使用溶解性越好的溶剂得到的谱图越干净,而且相对分子质量也更大。同时,溶剂的惰性对分析结果也会产生一定的影响。

主 题 词:尼龙66 基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱 溶剂 

学科分类:081704[081704] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 070302[070302] 0703[理学-化学类] 

D O I:10.3969/j.issn.1006-7167.2015.02.005

馆 藏 号:203443711...

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分