超导Nb膜表面减反膜技术研究

作     者：钟青 刘文德 马晓欢 王君 郑春弟 王雪深 李劲劲 ZHONG Qing;LIU Wen-de;MA Xiao-huan;WANG Jun;ZHENG Chun-di;WANG Xue-shen;LI Jin-jin

作者机构：中国计量科学研究院北京100029 北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院北京100192 

基　　金：国家重点研发计划(2017YFF0206105) 国家自然科学基金(61701470) 北京信息科技大学2017-2018年度"实培计划" 

出 版 物：《计量学报》 (Acta Metrologica Sinica)

年 卷 期：2019年第40卷第1期

页      码：78-81页

摘      要：针对单光子探测芯片中超导Nb膜减反的问题,研究了磁控溅射Nb膜折射率光谱特性随Nb膜厚度变化的规律,同时研究了化学气相沉积法制备的Si O2和Si Nx介质膜的折射率光谱特性。为降低超导Nb膜对633 nm光的反射比,在Nb膜表面设计和制备了Si O2和Si Nx减反膜。测试结果表明:Si O2和Si Nx使反射比明显减小,计算结果验证了这一趋势。

主 题 词：计量学 减反膜 超导Nb膜 介质膜 单光子探测芯片 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-1158.2019.01.12

馆 藏 号：203454707...