ArF准分子光刻机使半导体制造工艺到达32nm Gigaphoton公司发布了用于下一代半导体制造的世界上最强大的氟化氩(ArF)准分子激光器

作     者：张岩 

出 版 物：《光机电信息》 (OME Information)

年 卷 期：2008年第25卷第1期

页      码：29-29页

摘      要：Gigaphoton公司新近设计出一款输出功率为90W、重复频率为6000Hz的新型氟化氩（ArF）准分子激光器。该激光器可用于浸没式光刻机，其可使制作半导体晶片的制程仅为32nm。目前，全球芯片制造商刚开始将45nm制程技术投入量产，据估计32nm制程技术将于2009年投入使用。

主 题 词：准分子激光器 半导体制造工艺 光刻机 氟化 ArF 世界 制程技术 氩 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-1180.2008.01.007

馆 藏 号：203455733...