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20K冷背景的研制及其应用

20K冷背景的研制及其应用

作     者:任元狮 杨毅 万绍俊 

作者机构:北京卫星环境工程研究所 国防科工委指挥技术学院 

出 版 物:《航天器环境工程》 (Spacecraft Environment Engineering)

年 卷 期:1997年第14卷第1期

页      码:30-35页

摘      要:介绍20K冷屏在研制过程中的热设计和制造过程中解决的关键工艺问题,如材料选择、焊接等。并对冷屏的漏气率、发射率进行了测试。经过多光谱扫描仪合练定标试验证明,冷屏的实际技术性能均超过了设计的技术指标。

主 题 词:传热 低温 真空 空间环境模拟 

学科分类:08[工学] 082504[082504] 0825[工学-环境科学与工程类] 

馆 藏 号:203457427...

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