高纯电子级SiF_4中氟硅醚阻聚剂的设计及其性能

作     者：马建修 靖宇 杨振建 汤萍 王新鹏 MA Jianxiu;JING Yu;YANG Zhenjian;TANG Ping;WANG Xinpeng

作者机构：绿菱电子材料(天津)有限公司天津301714 

出 版 物：《低温与特气》 (Low Temperature and Specialty Gases)

年 卷 期：2019年第37卷第1期

页      码：6-10页

摘      要：在高纯电子级四氟化硅生产与纯化中,很容易产生氟硅醚杂质,甚至可以与四氟化硅进一步聚合生成氟硅醚高聚物。该高聚物可从胶体迅速聚集成颗粒,很容易堵塞管道和吸附剂,极易发生安全事故。根据硅醚键氟化断裂的化学性质,设计了一系列基于金属氟化物组成的氟硅醚阻聚剂。结果显示,Ag F2阻聚剂具有阻聚热力学效率高、动力学速率快的特点,可以使氟硅醚杂质有效控制浓度在20×10-6以下。四氟化硅重复50次(每次用量10kg)通过Ag F2阻聚剂仍然具有优秀的阻聚性能,故该阻聚剂具有良好的长期稳定性。

主 题 词：四氟化硅 阻聚 硅醚 纯化 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-7804.2019.01.002

馆 藏 号：203458114...