一维版图的快速光刻仿真

作     者：谢春蕾 史峥 林斌 

作者机构：浙江大学超大规模集成电路设计研究所浙江杭州310027 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2013年第33卷第11期

页      码：60-68页

摘      要：充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相比于传统的快速仿真方法,该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。

主 题 词：成像系统 光刻 光刻仿真 一维版图 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos201333.1111001

馆 藏 号：203458347...