16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究

作     者：李艳秋 刘岩 刘丽辉 Li Yanqiu;Liu Yan;Liu Lihui

作者机构：北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 北京航天计量测试技术研究所北京100076 

基　　金：国家科技重大专项(2012ZX02702001-002) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2019年第39卷第1期

页      码：427-434页

摘      要：16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据,对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光过程中反射镜的瞬态温度和变形分布。以Zernike多项式为接口拟合变形面,分析热变形对成像性能的影响。结果表明:物镜的最高温升和最大变形分别为3.9℃和10.2 nm,高温态物镜的热变形引起的最大波像差均方根和畸变分别为0.1λ和56 nm,超出了合理范围。M3和M4反射镜热变形累加引起的波像差和畸变的占比分别为88%和99%,对成像性能的影响起主导作用,需要对其进行严格控温。

主 题 词：光学设计 热变形 极紫外光刻 有限元分析 反射系统 成像性能 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/AOS201939.0122001

馆 藏 号：203459512...