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压阻式硅微加速度计的研制

压阻式硅微加速度计的研制

作     者:张精华 田雷 迟晓珠 王伟 侯占民 吴亚林 

作者机构:中国电子科技集团公司第四十九研究所黑龙江哈尔滨150001 

出 版 物:《传感器技术》 (Journal of Transducer Technology)

年 卷 期:2003年第22卷第12期

页      码:40-42页

摘      要:介绍压阻式硅微加速度计的结构设计。采用等离子体刻蚀技术制作成硅微加速度计。该技术具有腐蚀深宽比高、掩模选择性好的特点,适用于微机械器件的制作。通过测试,加速度计的非线性达到0.2%。讨论了影响加速度计灵敏度的结构因素和工艺因素。

主 题 词:压阻式 硅微加速度计 结构设计 等离子体刻蚀 MEMS 

学科分类:08[工学] 080202[080202] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0802[工学-机械学] 081102[081102] 0811[工学-水利类] 

核心收录:

D O I:10.3969/j.issn.1000-9787.2003.12.013

馆 藏 号:203459926...

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