紫外全息凹面光栅离子束刻蚀技术

作     者：王长庚 WANG Chang-geng

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 

基　　金："863"重大项目(2010AA1221091001) 国家重大科研装备开发专项(2011YQ120023) 国家重大科研装备研制项目(ZBYZ2008-1) 中国科学院重大科研装备研制项目(YZ201005) 吉林省科技发展计划项目(20070523 20086013) 

出 版 物：《长春工业大学学报》 (Journal of Changchun University of Technology)

年 卷 期：2013年第34卷第6期

页      码：640-644页

摘      要：通过对引出的平行离子束流外加可控磁场,可以实现离子束流偏转。该方法实现IV型凹面光栅沿曲面不同闪耀角离子束刻蚀,能够获得高衍射效率的IV型凹面光栅。经过理论设计计算出理想的IV型凹面光栅闪耀角,利用全息曝光-弯转离子束刻蚀工艺制作出尺寸45mm×40mm,波长250nm处衍射效率达67%,入臂200mm,出臂188mm,曲率半径224mm的IV型凹面光栅。同时,利用平行离子束流制作了相同参数的IV型凹面光栅,其250nm处的衍射效率为30%。实验结果表明,利用弯转离子束流制作IV型凹面光栅的方法简单易行,并能够精确控制离子束流实现高衍射效率的IV型凹面光栅制作。

主 题 词：束流控制 衍射效率 离子束刻蚀 凹面光栅 

学科分类：0810[工学-土木类] 081203[081203] 08[工学] 0835[0835] 0812[工学-测绘类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1674-1374.2013.06.010

馆 藏 号：203464230...