面孔加工事件相关电位时空模式:表情效应与方位效应的动态过程

作     者：郑能蝕 周曙 罗一峰 陆雪松 周宏珍 刘玲 陆兵勋 Zheng Neng-tao;ZHOU Shu;LUO Yi-feng;LU Xue-song;ZHOU Hong-zhen;Liu Ling;LU Bing-xun

作者机构：南方医科大学南方医院神经内科广东省广州市510515 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(30270468)~~ 

出 版 物：《中国临床康复》 (Chinese Journal of Clinical Rehabilitation)

年 卷 期：2005年第9卷第20期

页      码：1-3,i0001页

摘      要：目的:探讨面孔识别表情效应以及方位效应所诱发的事件相关电位时空模式特点。方法:实验于2004-07/09在南方医科大学脑研究中心完成。以来自南方医科大学的36名自愿健康受试者为研究对象,无精神疾患以及精神病家族史,(矫正)视力正常。利用3张不同表情(正性、中性、负性)面孔简笔画图片,以正立和倒立的形式与下述汉字:“喜”、“思”、“恐”随机混合构成刺激序列,9类刺激随机顺序呈现共450次(50次/类),让被试者从事简笔画面孔表情识别任务,系统记录正误率。同时观察不同表情和不同方位图片所诱发的事件相关电位波形的时空分布。结果:36名受试者中因为脑电干扰太大被剔除4名,32名进入结果分析。①32名受试者的反应正确率为(92.32±4.79)%。②受试者显著交互效应出现于右侧枕顶颞区(340～390ms)。③显著表情效应分别出现于双侧顶枕区(120～180ms),右侧额顶区(160～180ms),顶区和广泛头皮(200～280ms)以及前额区(320～380ms)。④显著方位效应出现于额顶区(85～105ms)、顶区和广泛头皮(125～185ms)、双侧额顶区(225～265ms),左侧颞区、额顶区及前额区(305～345ms)。结论:表情效应可早期出现在双侧枕区及额顶区,提示皮质通路的作用可能并不一定滞后。方位效应可早期出现在额顶区及随后的广泛区域,提示方位效应可能影响面孔低水平的视觉特征加工。表情与方位因素的显著交互效应短暂出现于右侧枕顶颞区,仅与表情主效应在枕区重合,可能反映倒立面孔的表情信息需要额外的加工,其短暂和局限的交互效应从相反的角度表明面孔表情与方位的信息加工相对独立。以时空模式反映的面孔加工过程,提示其表情和方位效应设计了广泛的脑区,是一个动态演化过程。

主 题 词：事件相关电位 P300 面部表情 脑电描记术 

学科分类：0710[理学-生物科学类] 0831[工学-公安技术类] 1002[医学-临床医学类] 100201[100201] 10[医学] 

D　O　I：10.3321/j.issn:1673-8225.2005.20.002

馆 藏 号：203470408...