飞秒激光作用下全向高反膜破坏的激发过程

作     者：孙海轶 贾天卿 李晓溪 徐世珍 冯东海 李成斌 王晓峰 徐至展 Sun Hai-Yi;Jia Tian-Qing;Li Xiao-Xi;Xu Shi-Zhen;Feng Dong-Hai;Li Cheng-Bin;Wang Xiao-Feng;Xu Zhi-Zhan

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:60108002)资助的课题.~~ 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2005年第54卷第10期

页      码：4736-4740页

摘      要：设计和制备了全向高反膜SiO2/TiO2,研究了它在不同脉冲宽度、不同脉冲能量的飞秒激光作用下的破坏阈值和烧蚀深度.利用发展的抽运-探针方法,研究了抽运脉冲作用下材料中导带电子的超快激发和能量沉积过程,建立并求解了飞秒激光激发材料和材料的激发对抽运光自身反作用的耦合动力学模型.模型较好地揭示了材料破坏的激发过程.

主 题 词：飞秒激光 全向高反膜 激发过程 破坏机制 激光作用 高反膜 耦合动力学模型 材料破坏 脉冲能量 抽运光 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0805[工学-能源动力学] 0704[理学-天文学类] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.7498/aps.54.4736

馆 藏 号：203470492...