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二氧化锡溅射工艺研究

二氧化锡溅射工艺研究

作     者:冯海玉 黄元庆 冯勇建 

作者机构:厦门大学机电工程系福建厦门361005 厦门大学萨本栋微机电研究中心福建厦门361005 

出 版 物:《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期:2003年第40卷第7期

页      码:189-191页

摘      要:SnO2 是最早使用也是目前使用最广泛的一种气敏材料 ,使用该材料设计制作的气敏传感器具有许多优点。在简要介绍溅射镀膜的成膜过程和特点的基础上 ,着重介绍了SnO2 膜的制备流程 。

主 题 词:二氧化锡 溅射工艺 SnO2 基片温度 气敏材料 气敏传感器 

学科分类:080903[080903] 0809[工学-计算机类] 080202[080202] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0802[工学-机械学] 

D O I:10.3969/j.issn.1671-4776.2003.07.055

馆 藏 号:203478622...

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