光刻版图形处理过程的计算机仿真

作     者：粟鹏义 陈开盛 曹庄琪 

作者机构：上海光刻电子科技有限公司上海200233 上海交通大学上海200030 

基　　金：上海市科委光科技专项行动计划项目资助(022261050) 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2004年第41卷第11期

页      码：43-45页

摘      要：采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理。将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换。该模型已应用于光刻版数据处理的电子设计自动化软件。

主 题 词：光刻版 版图 电子设计自动化软件 有限状态机 计算机仿真 状态转换 输入 图形处理 数据处理 模型 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1671-4776.2004.11.009

馆 藏 号：203478622...