光瞳滤波提高投影光刻成像分辨力研究

作     者：康西巧 罗先刚 陈旭南 

作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209 

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (698760 41) 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2001年第28卷第3期

页      码：9-11页

摘      要：针对投影光刻成像系统在数值孔径足够大时所产生的分辨力和焦深的矛盾 ,详细研究了光瞳滤波对投影成像对比度的改善情况 ,根据不同掩模图形设计对应的最优滤波器。研究结果表明 ,光瞳滤波能大幅度提高投影光刻成像分辨力并增大焦深 。

主 题 词：光刻系统 投影光刻 图像分辨力 光瞳滤波 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2001.03.003

馆 藏 号：203479072...