亚微米电子束曝光机镜筒光路与结构

作     者：刘求益 LIU Qiu-yi

作者机构：信息产业部电子第48研究所长沙410111 

出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)

年 卷 期：2000年第4期

页      码：9-13页

摘      要：介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计 ,该电子光学系统采用透镜内偏转设计 ,系统象差小 ,偏转灵敏度高 ,工件面上电流密度大。通过调试和使用 ,电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。

主 题 词：电子束曝光机 光路 结构设计 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203480750...