基于MEMS技术的新型变形反射镜

作     者：汪超 余洪斌 陈海清 WANG Chao;YU Hong-bin;CHEN Hai-qing

作者机构：华中科技大学光电子工程系湖北武汉430074 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2005年第32卷第4期

页      码：89-92页

摘      要：基于MEMS技术体硅工艺,提出一种新型大有效面积的连续变形反射镜的设计制造方法。依工艺流程中的实际情况与结果,分析了在制造过程中遇到的大面积腔体深腐蚀中凸角腐蚀和键合中小空隙粘合等关键问题,设计实施了T形补偿角、延长驱动线等解决方案。用此方法制造出有效反射面积30mm×30mm,最大变形量1.2μm,49驱动电极的新型变形反射镜。10-200V电压范围内得到的该变形反射镜镜面变形数据与模拟结果具有很好的一致性。

主 题 词：变形反射镜 微电子机械系统 体硅工艺 凸角补偿 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2005.04.025

馆 藏 号：203485656...