智能化刻蚀系统有效降低硅片制造成本

作     者：刘洋 

出 版 物：《电子设计技术 EDN CHINA》 (EDN CHINA)

年 卷 期：2011年第18卷第2期

页      码：20-20页

摘      要：应用材料公司（Applied MateriaIs）宣布推出强大的APPlied Centris AdvantEdgeMesa刻蚀系统。结构紧凑的Centris系统以前所未有的方式装配了8个反应腔，即6个划蚀反应腔和2个刻蚀后清洁腔，每小时可处理多达180片硅片，最多可将单片硅片的制造成本降低30％。

主 题 词：刻蚀系统 反应腔 清洁腔 应用材料公司 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1023-7364.2011.02.005

馆 藏 号：203487800...