微颗粒表面磁控溅射镀金属膜实验

作     者：沈志刚 俞晓正 徐政 裴喜华 Shen Zhigang;Yu Xiaozheng;Xu Zheng;Pei Xihua

作者机构：北京航空航天大学航空科学与工程学院北京100083 北京有色金属研究总院北京100088 国家纳米技术产业化基地天津300457 

基　　金：航空基金资助项目(05H51046) 北京市教育委员会共建项目建设计划资助项目(SYS100060413) 

出 版 物：《北京航空航天大学学报》 (Journal of Beijing University of Aeronautics and Astronautics)

年 卷 期：2006年第32卷第10期

页      码：1193-1198,1204页

摘      要：采用磁控溅射方法,成功地在微颗粒表面沉积了金属铜膜和金属镍膜.利用光学显微镜(OM)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、多功能扫描探针显微镜(SPM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)和光电子能谱仪(XPS)等测试仪器对其表面形貌、膜厚和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制微颗粒的运动方式,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或装载量越少,都有利于薄膜结晶.

主 题 词：磁控溅射 金属膜 微颗粒 空心微珠 碳化硅 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0802[工学-机械学] 0825[工学-环境科学与工程类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-5965.2006.10.013

馆 藏 号：203501544...