等离子体加工光学元件工艺研究

作     者：王颖男 杭凌侠 胡敏达 WANG Ying-nan;HANG Ling-xia;HU Min-da

作者机构：西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室陕西西安710032 

出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)

年 卷 期：2008年第37卷第1期

页      码：51-53页

摘      要：为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。

主 题 词：超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.018

馆 藏 号：203509421...