二元光学法在微透镜制作中的应用

作     者：孔令彬 易新建 陈四海 

作者机构：中国地质大学机电工程系 华中科技大学光电子工程系湖北武汉430074 华中科技大学光电子工程系 

基　　金：国家高技术研究发展计划资助项目 国家自然科学基金资助项目(60086003) 

出 版 物：《电子元件与材料》 (Electronic Components And Materials)

年 卷 期：2002年第21卷第2期

页      码：5-7,12页

摘      要：对二元光学的产生和发展作了介绍,并阐述了二元光学元件之一的微透镜(microlenses)的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。微透镜的设计是基于已成熟的标量衍射理论;而其制作过程包括:计算机设计波面相位、产生掩模版、光刻或离子(束)蚀刻以及复制产生微透镜,其关键技术蚀刻方法有等离子蚀刻技术和反应离子蚀刻RIE(Reactive Ion Etching)技术;微透镜的测试主要包括衍射效率(diffractive efficiency)和点扩散函数(PSF)的测试,有直接法和间接法两种测试方法。微透镜可以微型化与阵列化,并且可以同微电子器件一起集成化,具有广泛的应用前景。

主 题 词：二元光学 微透镜 衍射效率 点扩散函数 蚀刻 光学元件 全息术 

学科分类：1304[艺术学-美术学类] 13[艺术学] 08[工学] 0804[工学-材料学] 0802[工学-机械学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-2028.2002.02.002

馆 藏 号：203520255...