磁带电镀镍钴磷合金工艺

作     者：戴传忠 王廷恕 

作者机构：上海机床研究所 

出 版 物：《电镀与环保》 (Electroplating & Pollution Control)

年 卷 期：1990年第10卷第2期

页      码：7-9页

摘      要：表文研究了磁带电镀镍钴磷合金工艺,并成功地使用了氮化物镀液,镀液组成和操作条件如下:氯化钴90～100g/L,氯化镍90～100g/L,氯化铵80～100g/L,次亚磷酸钠8～10g/L,减应力剂1.15～0.1g/L,温度(℃)50±1,pH3.3～3.8,D_K0.8～1.2A/dMn^2,时问40min,阳极镍钴合金(Ni:Co=2:8),镀液循环过滤。所得镀层成分,镍约15～17％,钴≥80％,磷3～5％。该电镀工艺经反复试验、研究,镀层质量和磁性能均达到磁栅数显系统的实际使用要求,并且在自行设计的磁带连续电镀自动线上,镀出了商品长磁带,已满足科研和磁栅数显系统生产的需要。

主 题 词：合金 磁带 电镀工艺 镍 钴 磷 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

馆 藏 号：203532242...