化学激光器用文氏咀的临界背压比

作     者：闫宝珠 袁圣付 王志刚 陆启生 Yan Baozhu;Yuan Shengfu;Wang Zhigang;Lu Qisheng

作者机构：国防科学技术大学光电科学与工程学院长沙410073 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2009年第21卷第11期

页      码：1619-1622页

摘      要：建立了一套文氏咀临界背压比的测量系统,分别以氮气、氩气和氧气为工作介质,对两种加工工艺、不同规格文氏咀的临界背压比进行了测量,得到了各文氏咀对应不同工作介质的临界背压比,讨论了实验系统中第一个文氏咀的作用和温度对测量结果的影响。实验结果表明:设计合理、工艺合适的Laval喷管,临界背压比明显高于临界压力比,而且,比热容比越小,表面粗糙度等级越高,喉道直径越大,对应的临界背压比越大。

主 题 词：化学激光器 文氏咀 临界背压比 流量控制 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080103[080103] 080401[080401] 080104[080104] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 0801[工学-力学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203533351...