二次离子质谱在HL—1M聚变装置中的应用

作     者：王明旭 张年满 

作者机构：核工业西南物理研究院 

出 版 物：《真空科学与技术》 (Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：1998年第18卷第A12期

页      码：169-172页

摘      要：将ＬＡＳ－２０００型二次离子质谱仪改成研究第一壁材料及其涂层、新材料性能的重要实验设备。在ＨＬ－１Ｍ装置设计、安装和物理实验过程中，用该设备对ＨＬ－１Ｍ装置真空室用ＡＩＳＩ３０４Ｌ不锈钢、第一壁用ＳＭＦ－８００石墨材料及ＨＬ－１Ｍ装置原位硼化、硅化涂层和ＳｉＣ等涂层材料的真空热解释性能、吸氢性能和化学溅射性能进行了实验研究，并对装置主抽气扁管内壁的清洁度进行了监测。实验证明了原位硼化。

主 题 词：热解释 第一壁材料 腐蚀 污染 SIMS 聚变装置 

学科分类：08[工学] 082701[082701] 0827[工学-食品科学与工程类] 

馆 藏 号：203533530...