用于非球面测试的位相型计算全息图制作

作     者：马杰 朱效立 谢常青 叶甜春 赵珉 刘明 陈宝钦 朱日宏 高志山 马骏 MA Jie;ZHU Xiao-li;XIE Chang-qing;YE Tian-chun;ZHAO Min;LIU Ming;CHEN Bao-qin;ZHU Ri-hong;GAO Zhi-shan;MA Jun

作者机构：中国科学院微电子研究所北京100029 南京理工大学光学工程系南京210094 

基　　金：国家重点基础研究发展规划资助项目(2007CB935302) 中国高技术发展研究计划资助项目(2006AA03Z355) 

出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)

年 卷 期：2008年第6期

页      码：7-8,11页

摘      要：本文对计算全息图元件的设计和制作关键技术进行了研究,自行开发了计算全息图元件光刻图形计算机生成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的基础上,采用湿法腐蚀铬、感应耦合等离子体刻蚀石英玻璃两步图形转移的方案,制作出了图形区直径为64 mm、最外环线条宽度为2.0μm、刻蚀深度为690 nm的位相型计算全息图元件,并对加工结果进行了测量。结果表明,本方案所制作的计算全息图元件具有良好的加工质量,符合应用的需求。

主 题 词：非球面测试 计算全息图 电子束光刻 湿法腐蚀 感应耦合等离子体刻蚀 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

馆 藏 号：203536464...