荧光X射线参考辐射的优化

作     者：丁亚东 魏可新 宋明哲 刘巧凤 Ding Yadong;Wei Kexin;Song Mingzhe;Liu Qiaofeng

作者机构：中国科学院高能物理研究所北京100049 中国原子能科学研究院北京102413 

出 版 物：《辐射防护》 (Radiation Protection)

年 卷 期：2014年第34卷第6期

页      码：366-369,375页

摘      要：在荧光X射线参考辐射场中,射线的强度和纯度会受到机械装置本身、辐射体厚度、次级过滤厚度、X光机管电压的影响。在优化设计参考辐射装置结构的基础上,通过理论分析计算和蒙特卡罗模拟,得到荧光强度和纯度随辐射体和次级过滤厚度的变化,并对X光机管电压对荧光强度和纯度的影响进行了测量。结果显示:F-Cs这一辐射质,当辐射体Cs2SO4的厚度大于490μm时,荧光强度达到饱和;当次级过滤Te O2的厚度约为327μm时,荧光纯度最高;荧光强度随X光机管电压的升高而增加,纯度随管电压的升高而降低。

主 题 词：荧光X射线 参考辐射 辐射体 次级过滤 管电压 MCNP 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203536520...