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正交设计法优化电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺

正交设计法优化电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺

作     者:蔡青 孟维艳 周延民 赵静辉 王世振 张宾 王闻天 李家奇 

作者机构:吉林大学口腔医学院种植科吉林长春130000 

基  金:国家自然科学基金资助项目(基金号:81141063) 吉林省科技厅资助项目(基金号:200905175) 

出 版 物:《口腔医学研究》 (Journal of Oral Science Research)

年 卷 期:2012年第28卷第8期

页      码:763-766页

摘      要:目的:采用正交设计法,对电化学浸蚀形成钛合金表面微结构工艺参数进行优化。方法:先采用L9(33)正交实验对钛合金表面进行阳极浸蚀处理,HCl浓度(A)、HF浓度(B)、NH4F浓度(C)作为3个因素。上述方法获得表面再用L9(33)正交实验进行交流电化学浸蚀处理,HNO3浓度(X)、电压(Y)、蚀刻时间(Z)作为3个因素。结果:获得最优微米表面的条件是:HCl酸浓度:99g/L、HF酸浓度:51g/L、NH4F盐浓度15g/L;获得最优亚微米孔表面的条件是:HNO3酸浓度:246g/L、电压4V、蚀刻时间40s。结论:影响微米表面主要因素是HF浓度,影响亚微米表面主要因素是电压。

主 题 词:正交设计 电化学浸蚀 钛合金 微米孔 亚微米孔 

学科分类:1003[医学-口腔医学类] 100302[100302] 10[医学] 

D O I:10.13701/j.cnki.kqyxyj.2012.08.025

馆 藏 号:203550079...

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