激光刻蚀制备微波介质陶瓷滤波器工艺研究

作     者：许来涛 唐普洪 胡元云 丰崇友 Xu Laitao;Tang Puhong;Hu Yuanyun;Feng Chongyou

作者机构：嘉兴职业技术学院机械设计研究所浙江嘉兴314036 嘉兴佳利电子有限公司浙江嘉兴314003 

基　　金：浙江省自然科学基金资助项目(项目编号:LQ12E05010) 嘉兴市科技计划资助项目(项目编号:2013AY11025) 

出 版 物：《应用激光》 (Applied Laser)

年 卷 期：2015年第35卷第5期

页      码：583-587页

摘      要：采用激光在微波介质陶瓷滤波器的镍、铜、银的镀层表面刻蚀制备耦合电容图形。分别研究了激光刻蚀功率、激光刻蚀速度对图形微槽深度、产品合格率和产品二次污染率的影响。结果表明,在激光刻蚀速度一定时,耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀功率先增大后减小,激光刻蚀功率为15 W时达到最大值;在激光刻蚀功率一定时,耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀速度的增大而减小。产品合格率在激光刻蚀速度一定时,激光刻蚀功率达到13 W以后保持在95%以上;在激光刻蚀功率一定时,激光刻蚀速度达到1 000mm/min以前保持在95%以上。因此最佳的激光刻蚀参数为:刻蚀速度为800mm/min,刻蚀功率为18 W。

主 题 词：激光 介质陶瓷 刻蚀 滤波器 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0802[工学-机械学] 0803[工学-仪器类] 080201[080201] 

D　O　I：10.14128/j.cnki.al.20153505.583

馆 藏 号：203551571...