原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

作     者：陈献忠 姚汉民 陈旭南 李展 陈元培 高洪涛 石建平 

作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209 

基　　金：中国科学院创新基金资助项目(A2K0009) 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室开放基金课题 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2004年第31卷第1期

页      码：5-8页

摘      要：原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.

主 题 词：原子光刻 超高真空蒸发设备 设计 原子光学 微细加工技术 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2004.01.002

馆 藏 号：203571361...