通过Cadence基于模型的物理和电气DFM解决方案，飞思卡尔提高了45nm高速、高复杂性设计的良品率和上市时间

出 版 物：《电子与电脑》 (Compotech)

年 卷 期：2009年第9卷第8期

页      码：96-96页

摘      要：电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司宣布。飞恩卡尔半导体公司通过使用Cadence的“一次设计成功”预防、分析、实现和签收解决方案成功实现了45nm网络设计流片。该解决方案能够帮助加快量产时间并提高可预见性。这一流程结合了业界领先的、基于模型的可制造性设计（DFM）预防、分析和签收，包括Cadence Litho Physical Analyzer（LPA）、Cadence Chemical-Mechanical Polishing Predictor（CCP）、Cadence Litho Electrical Analyzer（LEA）、Cadence QRC Extraction和通过Cadence Encounter数字实现系统（EDI System）实现的基于模型的路由优化技术。

主 题 词：Cadence设计系统公司 基于模型 上市时间 卡尔 DFM 良品率 复杂性 电气 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 080402[080402] 0838[0838] 

馆 藏 号：203579447...