高损伤阈值双色膜

作     者：潘峰 陈松林 马平 王震 刘志超 Pan Feng;Chen Songlin;Ma Ping;Wang Zhen;Liu Zhichao

作者机构：成都精密光学工程研究中心四川成都610041 

基　　金：国家863计划(2009AA8044022) 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2012年第41卷第2期

页      码：379-382页

摘      要：结合双色膜的驻波场分布优化膜系设计,以电子束蒸发的方式制备了1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜。采用1-on-1方式测量了双色膜在基频透过光和倍频反射光的辐照下的损伤阈值,为了研究双色膜在基频和倍频下的损伤机制差异,对比了双色膜不同的初始损伤形貌并分析了其形成原因。针对损伤机制的差异,研究了外层驻波场分布对于倍频反射光辐照下的双色膜损伤特性影响以及氧化硅内保护层对于基频透过光的损伤特性的影响。实验结果表明:氧化硅内保护层和驻波场优化有助于提高双色膜在基频光和倍频光辐照下的激光损伤阈值,并对其机理做了分析。

主 题 词：双色膜 驻波场 内保护层 激光损伤 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-2276.2012.02.020

馆 藏 号：203580652...