分子玻璃光致抗蚀剂研究进展

作     者：徐娜 刘玉芹 王金玲 胡勇 孟磊 

作者机构：吉林化工学院研究生处吉林吉林132022 吉林化工学院材料科学与工程研究中心吉林吉林132022 中国石油吉林石化公司乙烯厂吉林吉林132022 吉林市龙潭区第二实验幼儿园吉林吉林132021 中山市福瑞特科技产业有限公司广东中山528400 

出 版 物：《吉林化工学院学报》 (Journal of Jilin Institute of Chemical Technology)

年 卷 期：2012年第29卷第9期

页      码：12-16页

摘      要：随着半导体芯片集成度的快速提高,光刻技术的分辨率正由90、65和45 nm迈向更先进的32 nm或以下.而分子玻璃体抗蚀剂可能是下一代光刻技术的最好选择.本文阐述了分子玻璃光致抗蚀剂的设计思想,并介绍了几种性能良好的分子玻璃光致抗蚀剂.

主 题 词：光致抗蚀剂 分子玻璃体 结构 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1007-2853.2012.09.004

馆 藏 号：203580889...