采用动态电位规范在钛及其合金表面形成微弧氧化覆层

作     者：赵树萍 戴良钢 吕双坤 

作者机构：辽宁省日用电器研究所沈阳110032 沈阳工业安装集团股份有限公司沈阳110026 沈阳环卫工程设计研究院沈阳110001 

出 版 物：《国外金属热处理》 (Heat Treatment of Metals Abroad)

年 卷 期：2005年第26卷第5期

页      码：18-21页

摘      要：介绍了微弧氧化过程中动态电位的研究,以及采用动态电位对钛及其合金进行微弧氧化时形成覆层的各参数间的关系。

主 题 词：钛合金 微弧氧化 动态电位规范 覆层 微弧氧化 电位 覆层 合金 面形 钛 氧化过程 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.19382/j.cnki.1673-4971.2005.05.005

馆 藏 号：203593476...