X射线二极管平响应滤片的制作

作     者：辛将 谢常青 李志超 朱效立 刘明 徐超 陈军宁 Xin Jiang;Xie Changqing;Li Zhichao;Zhu XiaoLi;Liu Ming;Xu Chao;Chen Junning

作者机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室北京100029 安徽大学电子科学与技术学院合肥230039 中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 

基　　金：国家重点基础研究发展计划项目(2007CB935302) 国家高技术研究发展计划(2008AA8040208) 国家自然科学基金(60825403) 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2011年第48卷第1期

页      码：53-57页

摘      要：针对X射线二极管平响应滤片的设计要求,采用电子束蒸发生长薄金层、紫外光曝光光刻、微电镀厚金层、体硅腐蚀制作镂空结构和等离子体刻蚀去掉PI等技术,成功制备了阵列结构的圆孔直径为5μm,周期为10.854μm,金层厚度分别为50,400nm的薄、厚两种金层滤片。电镀过程中采用台阶仪多次测量图形四周电镀厚度后取均值的方法得到尽可能准确的电镀厚金层。滤片交付实验后,在X光能量0.1～4keV取得的平响应曲线标准偏差与均值之比在13%以内,可以满足相关单位的具体物理研究实验要求。

主 题 词：微电镀 体硅腐蚀 等离子体刻蚀 X光平响应 紫外光曝光 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1671-4776.2011.01.010

馆 藏 号：203595349...