周期调制DFB半导体激光器的双辅助相移对空间烧孔效应的抑制作用(英文)

作     者：郭仁甲 郑俊守 张云山 施跃春 李连艳 仇伯仓 卢林林 陈向飞 

作者机构：National Laboratory of Solid State Microstructure College of Engineering and Applied Sciences Microwave-Photonics Technology Laboratory Nanjing University Nanjing University (Suzhou) High-Tech Institute Suzhou Institute of Nano-Tech and Nano-Bionics Chinese Academy of Sciences Jiangsu Posts and Telecommunications Planning and Designing Institute Co. LTD 

基　　金：supported by the National Natural Science Foundation of China(61306068 and 61435014) the Natural Science Foundation of Jiangsu Province of China(BK20130585 and BK20140414) the National High Technology Research and Development Program(SS2015AA012302) the Applied Basic Research Project of Suzhou City(SYG201309) 

出 版 物：《Science Bulletin》 (科学通报（英文版）)

年 卷 期：2015年第60卷第11期

页      码：1026-1032,I0008页

摘      要：由于分布反馈武（DFB）半导体激光器具有结构简单、频谱稳定等优点，在光通信领域具有十分广泛的应用．传统的DFB激光器在大电流条件下容易产生空间烧孔效应，从而造成单模特性不稳定为了抑制空间烧孔效应，本文基于重构等效啁啾技术设计了具有双辅助相移的周期调制光栅结构，并从理论和实验两个方面进行了研究，理论仿真和实验结果吻合．男外仿真计算了激光器谐振腔中光场分布的平坦因子，利用双辅助相移周期调制光栅结构DFB激光器，其腔内光场分布平坦程度得到明显提高．实验结果表明：温度25℃，注入电流50～160mA时，激光器边模抑制比均超过35dB，单模特性保持稳宅因此，本文论述的DFB激光器对空间烧孔效应具有明显抑制作用．

主 题 词：DFB激光器 空间烧孔 调制 相移 半导体激光器 工作电流 边模抑制比 分布反馈 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.1007/s11434-015-0807-y

馆 藏 号：203597537...